栅格离子源原理

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-01-25 1:14:11 * 浏览: 41

离子源用于检查特高压甚至XHV应用中的残留气体。其极其开放的结构和材料选择确保了极低的内部气体排放。离子源配有两根钨丝，可以同时对其进行加热和脱气。如果在低于10-11 hPa的压力下进行工作，尤其是为此目的，则应使用已充分脱气的杆系统。低于10-10 hPa的压力范围内的测量值可能会因所谓的EID（电子碰撞脱附）离子而失真。 [32]。这些（H +，O +，F +，Cl +）离子通过表面上的电子碰撞直接解吸，通常产率很高。 EID离子来自特高压设备的早期历史中的吸附剂涂层或离子源，通常具有几eV的初始能量。通过仔细选择场轴电压以抑制来自气相的能量约为100 eV的EID离子，可以使用此属性（图6.10）。